基地二期地下商街运营方案征集

大连集成电路设计产业基地二期项目坐落于高新街6号，目标打造集商业和配套服务区一体的地下商业街区（具体地理位置请看附件）。商街为两层，可用面积约为12000平方米，具备的功能区域有：

1、多功能厅

2、员工食堂

3、健身房

4、商业旺铺

5、停车场

现面向具有优秀运营经验的公司进行方案征集，方案包括运营模式、运营业态和整体设计思路等。详情请通过以下方式与项目单位取得联系：

邮箱：liu.sw@lnicc-dl.com

手机：15604928885

联系电话：0411-84821197

联系人：刘女士

我们期待您的加入！

大厦与地下商街地理位置关系示意图

地下商街与地铁地理位置关系示意图